Poly-silicon crater-defects; dual-gate technology; electrochemical corrosion; gate-oxide integrity; micro-arcing spots of damage;
机译:硼在P / sup +/-多晶硅/栅极氧化物界面处的渗透对双栅极CMOS技术的深亚微米器件可靠性的影响
机译:深亚微米Cmos技术中栅极氧化层清洁温度对Goi可靠性和器件性能的影响
机译:低于1/4 / splμm/ m的双栅极CMOS技术,使用用于nMOS和pMOS栅极的原位掺杂多晶硅
机译:关于双栅极技术孤独多硅火山口缺陷的产生与消除对氧化物完整性(GOI)的影响及其影响
机译:硅中的铁污染及其对超薄栅极氧化物完整性的影响。
机译:具有增强的双栅极和部分P埋层的超低比导通电阻横向双扩散金属氧化物半导体晶体管
机译:带有薄氮化栅氧化物的双栅CMOSFET中应力引起的泄漏电流
机译:在多晶硅栅极结构中使用雪崩注入在不同氧化条件下生长的热氧化物中的空穴俘获