ILD; Inter-layer dielectric; Metrology; Spectroscopic Ellipsometry; ULK; UV cure; ultra low-k;
机译:光谱椭圆形测定法精确地估计了优化三层宽带透明电极性能的厚度
机译:通过光谱椭圆形测量探测超薄Bi-Feni多层膜中的铋层性质
机译:H钝化Si(111)表面上鸟嘌呤层的真空紫外光谱椭偏研究
机译:使用宽带光谱椭圆形测定的超低k ILD层的内联控制
机译:椭圆偏振光谱法表征半导体层状结构。
机译:用于微和纳米电子应用的低k介电薄膜的热稳定性的宽带介电光谱表征
机译:使用光谱椭偏仪在薄alas层生长期间的反馈控制