机译:勘误表:通过射频等离子体增强化学气相沉积法对(111)和(220)晶体取向微晶硅薄膜进行表面化学处理”(日本应用物理学杂志(2010)49(081402))
机译:热线化学气相沉积法制备微晶硅膜的表面粗糙度
机译:椭圆偏振光谱法表征超高频等离子体增强化学气相沉积法沉积微晶硅薄膜的微观结构
机译:基于高频等离子体增强化学气相沉积对微晶硅膜表面粗糙度缩放的沉积压力对微晶硅膜的影响
机译:通过光子辅助的电子回旋共振化学气相沉积法生长的非晶和微晶硅薄膜,用于异质结太阳能电池和薄膜晶体管。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:微波等离子体增强的化学气相沉积制备功能梯度薄膜。具有防水表面的氧化硅膜。