complementary mask; electron beam projection lithography; data generation; stencil mask; pattern operation;
机译:为EPL模板掩模建模掩模制造和图案转移变形
机译:电子投影光刻中的8英寸模板掩模的互补掩模图案分割
机译:ArF浸入工具上的“面膜增强剂”技术,用于制造0.249μm〜2静态随机存取存储器接触层的45nm节点互补金属氧化物半导体
机译:通过使用一般几何操作工具,EPL模板掩模的实用互补掩模数据生成
机译:使用积分几何参数开发自动钻井液选择工具以实现有效的钻井作业
机译:用于开放式模板掩模的硅膜的机械,几何和电学特性