机译:用于193nm光刻的聚(5-((2-三甲基甲硅烷基-2-丙基)氧羰基)-降冰片烯-顺丁烯二酸酐)
机译:降冰片烯 - 马来酸酐的基本方面为193nm光刻的二苯甲酸酐共聚物:聚合化学和聚合物性质
机译:通过在CO 2 /环氧丙烷共聚中掺入(马来酸酐/ CIS-1,2,3,6-四氢邻溴酸酐)寡聚体通过掺入(马来酸酐/ CIS-1,2,3,6-四氢苯基酸酐)的交联网络:改善和剪裁热,机械和尺寸特性
机译:193-nm光刻的聚合物的物理化学性质掺入脂环族降冰片烯 - ALT-马来酸酐结构
机译:脂环族聚合物:化学和氟化氩激基复合物激光光刻
机译:聚碳酸亚丙酯中的交联网络通过掺入(顺丁烯二酸酐/顺式1236-四氢邻苯二甲酸CO2 /环氧丙烷共聚中的酸酐)低聚物:改善和定制热机械和尺寸特性
机译:基于脂环族丙烯酸酯聚合物的化学扩增的负性抗蚀剂,用于193-nm光刻。
机译:用于193纳米准分子激光光刻的表面成像硅聚合物(重新公布新的可用性信息)