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机译:降冰片烯 - 马来酸酐的基本方面为193nm光刻的二苯甲酸酐共聚物:聚合化学和聚合物性质
IBM Almaden Research Center 650 Harry Road San Jose CA 95120 U.S.A.;
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norbornene; maleic anhydride; alternating copolymer; charge transfer complex; polymerization kinetics; magnetic resonance spectroscopy; mercury method; quartz crystal microbalance; base hydrolysis; 193 nm lithograpy; chemical amplification;
机译:降冰片烯 - 马来酸酐的基本方面为193nm光刻的二苯甲酸酐共聚物:聚合化学和聚合物性质
机译:用于193 nm光刻的新型聚合物阴离子光酸产生剂(PAG)和相应的聚合物
机译:通过与熔体中的马来酸酐接枝共聚来改性丙烯腈-丁二烯-苯乙烯三元共聚物。二。特性和相行为
机译:193-nm光刻的聚合物的物理化学性质掺入脂环族降冰片烯 - ALT-马来酸酐结构
机译:多壁碳纳米管的长径比和表面化学性质对多壁碳纳米管/聚合物复合泡沫结构和性能的影响
机译:顺丁烯二酸酐全氟辛基和甲基丙烯酸丁酯或十二烷基酯的自由基共聚合合成均相组成的三元共聚物:连续流单体加成技术的应用
机译:193nm光刻的降冰片烯 - 马来酸酐的基本方面和三元共聚物:聚合化学和聚合物性质。
机译:用于193纳米准分子激光光刻的表面成像硅聚合物(重新公布新的可用性信息)