Fourier analysis; annealing; interface structure; nickel compounds; semiconductor-metal boundaries; silicon; sputtered coatings; substrates; transmission electron microscopy; 498 K; 600 K; Fourier analysis; NiSisub2/sub-Si; Si; Si (100) substrate; crystal lattices; h;
机译:透射电子显微镜对硅化镍薄膜和硅化物-硅界面的显微组织研究
机译:高分辨率透射电镜研究镍包覆碳纳米胶囊中石墨烯/镍界面的结构
机译:使用牺牲硅层在应变Si_(0.83)Ge_(0.17)/ Si(001)上形成硅化镍层及其形态稳定性
机译:在各种退火条件下镍硅化物形成后Si(001)薄镍层之间的高分辨率透射电子显微镜
机译:含0至4重量百分比铬(镍,钼,合金作用,铬)的三元镍(4)钼基合金的相变的透射电子显微镜研究。
机译:对高度有序的混合界面的电子和磁性的深入评估:Fe(001)的镍四苯基 - 卟啉的情况 -
机译:使用原位透射电子显微镜直接观察(100)Si和Si0.75Ge0.25衬底上硅化镍的形成
机译:镝离子注入镍的退火行为:使用卢瑟福背散射,透射电子显微镜和总电流光谱的组合研究