gallium compounds; III-V semiconductors; wide band gap semiconductors; semiconductor thin films; plasma CVD; laser deposition; semiconductor growth; X-ray diffraction; light transmission; GaN; microwave plasma assisted laser-induced chemical vapour d;
机译:N2 / CH4微波等离子体辅助化学气相沉积法初步合成氮化碳薄膜:放电和所得薄膜的表征
机译:微波等离子体促进金刚石生长,增强化学气相沉积:光发射特性和添加氩的影响
机译:非晶态碳的远程微波等离子体增强化学气相沉积:余辉和生长速率的发射光谱表征
机译:微波等离子体辅助激光诱导化学气相沉积法生长的GaN的生长与表征
机译:氮对微波等离子体辅助化学气相沉积金刚石薄膜生长的影响
机译:低温等离子体增强化学气相沉积法在玻璃基板上铜辅助垂直石墨烯纳米片的直接生长
机译:远程微波等离子体增强化学气相沉积非晶碳:光发射光谱表征余辉和生长速率
机译:通过微波等离子辅助化学气相沉积生长的金刚石薄膜。