resists; electron beam lithography; surface roughness; evaporation; nanolithography; electron beam lithography; resist; nonplanar surfaces; conventional thermal evaporation; surface roughness; 20 nm;
机译:使用紫外线可固化正性电子束光刻胶,通过紫外-纳米压印光刻和电子束光刻进行微通道制造
机译:电子束直径,电子能量,抗蚀剂厚度和抗蚀剂类型的依赖关系,通过使用蒙特卡洛模拟在EB光刻中形成纳米点阵。
机译:使用接枝的PMMA单层作为抗蚀剂的非正规表面上的电子束光刻
机译:用于非平面表面的蒸发的电子束光刻抗蚀剂
机译:使用蒸发的电子束抗蚀剂在非平面表面上开发高分辨率纳米光刻技术。
机译:使用原位自显影抗蚀剂进行带反馈的电子束光刻
机译:MR-POSEBR:高分辨率电子束光刻和3D表面图案的新型正音抗蚀剂