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【24h】

Structure control of ferroelectric PbTiO/sub 3/ thin films using SrTiO/sub 3/ buffer layer prepared by metalorganic decomposition

机译:利用金属有机分解制备的SrTiO / sub 3 /缓冲层控制铁电PbTiO / sub 3 /薄膜的结构

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摘要

Polycrystalline PbTiO/sub 3/ thin films were successfully formed on SrTiO/sub 3/ buffer layer by metalorganic decomposition (MOD) technique. The PbTiO/sub 3/ films showed the perovskite structure after annealing at 700/spl deg/C for 30 min in N/sub 2/ ambient. A higher dielectric constant of 157 is obtained in the PbTiO/sub 3//SrTiO/sub 3//Si structure. The hysteresis loop in the capacitance-voltage curves of the MFIS configuration indicated a memory window of 1.2 V with a programming voltage swing of /spl plusmn/5 V due to polarization effect. The memory window will satisfy the practical application of the MFIS-FET memories operating at low voltage in future ULSIs.
机译:通过金属有机分解技术成功地在SrTiO / sub 3 /缓冲层上形成了多晶PbTiO / sub 3 /薄膜。 PbTiO / sub 3 /膜在N / sub 2 /环境中以700 / spl deg / C的温度退火30分钟后显示出钙钛矿结构。在PbTiO / sub 3 // SrTiO / sub 3 // Si结构中获得了更高的介电常数157。 MFIS配置的电容-电压曲线中的磁滞回线表明,由于极化效应,存储窗口为1.2 V,编程电压摆幅为/ spl plusmn / 5V。存储器窗口将满足未来ULSI中以低电压运行的MFIS-FET存储器的实际应用。

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