机译:从四甲基二硅氮烷源进行远程氢氮等离子体化学气相沉积。第1部分。沉积非晶氢化碳氮化硅薄膜的过程,结构和表面形态的机理
机译:镓离子辐照引起溅射沉积非晶碳薄膜的压实和硬化
机译:类似于金刚石的碳膜的低摩擦性能和通过先进涂层工艺沉积的非晶碳膜的透氧率
机译:用于双层抗蚀剂的等离子沉积平面非晶碳膜的硬化工艺
机译:用微波ECR等离子体反应器沉积氢化非晶碳膜的膜性能和沉积过程的研究。
机译:磁控溅射沉积非晶碳膜的基体温度相关的微观结构和电子诱导的二次电子发射特性
机译:惰性气体稀释稀释溶液溶液溶液的氢化非晶碳薄膜的生产和表征
机译:等离子体沉积的非晶碳膜作为平面化层。