新規燃焼装置による低温溶射用HVAF の開発

摘要

コールドスプレーは数μm～50μm の粒子をヒーターで加熱した窒素・ヘリウム等の不活性ガス中に投入した後に，超音速（CD)ノズルで粒子を500～1000m/s に加速して，固相状態のまま粒子を基材に衝突させる方法である．このとき，運動エネルギーにより粒子は塑性変形し，同時に基材も塑性変形することにより粒子は堆積していき皮膜を形成する．緻密で酸化が殆ど発生しない高品質な皮膜を作製可能であり，従来の溶射法では不可能であった1cm を超える厚膜を作製できる等の長所がある．その反面，50～150m~3/h の不活性ガスを使用するため運転コスト増大は無視できない問題であり，低コストで運転できる機器の開発が求められている．