Active Voltage Contrast and Seebeck Effect Imaging as ComplementaryTechniques for Localization of Resistive Interconnections

著录项

• 来源
  《ISTFA 2008 : Conference proceedings from the 34th international symposium for testing and failure analysis》|2008年|65-69|共5页
• 会议地点 Portland OR(US);Portland OR(US)
• 作者

  I. ?sterreicher; rnU. Rossberg; rnS. Eckl;

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• 作者单位

  Infineon Technologies Dresden GmbH Co. OHG, Dresden, Germanyrningo.oesterreicher@infineon.com;

  Infineon Technologies Dresden GmbH Co. OHG, Dresden, Germany;

  Infineon Technologies Dresden GmbH Co. OHG, Dresden, Germany;

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• 会议组织
• 原文格式 PDF
• 正文语种 eng
• 中图分类
• 关键词

• 入库时间 2022-08-26 14:08:17