National Laboratory for Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, Yu Tian Road 500, Shanghai, China 200083;
oriented growth; optical properties; SrTiO_3 thin films; RF magnetron sputtering;
机译:射频磁控溅射在不同衬底温度下沉积的SrTiO_3薄膜的光学性质
机译:射频磁控溅射制备高取向(Zr-0.8,Sn-0.2)TiO4薄膜的光学和介电性能
机译:射频磁控溅射在Si(100)衬底上生长的高c轴织构MgO缓冲层的制备和表征,用作铁电薄膜的生长模板
机译:通过RF磁控溅射和光学性质,高度(H00)在Si(100)基板上的SRTIO_3薄膜的增长
机译:沉积参数与射频磁控溅射沉积氧化锆薄膜性能之间的关系。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:RF磁控溅射在SiO2 / Si(100)基板上生长的ZnO薄膜的结构和光学性质