Device Research Team, RD Center, Samsung Electronics Co., San 24, Nongseo-Dong, Kiheung-Eup, Yongin-City, Kyungki-Do, KOREA, 449-711;
机译:基于体鳍形场效应晶体管结构的P沟道氧化硅-氮化物-氧化硅-硅闪存器件的制作和特性
机译:在硬化的全耗尽SIMOX SOI晶圆中制造的伪MOS晶体管的辐射响应
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机译:全剂量辐照期间全耗尽sOI晶体管响应的新见解