College of Mechanical Engineering, Zhejiang Ocean University, China;
MOE Key Laboratory of Mechanical Manufacture and Automation,Ultra-Precision Machinging Research Center, Zhejiang University of Technology, China;
chemical mechanical polishing (CMP); silicon nitride ceramics; solid-phase reaction;
机译:先进陶瓷(氮化硅)和玻璃(二氧化硅)的磁浮法抛光(MFP)中的化学机械抛光(CMP)
机译:氮化硅陶瓷化学机械抛光的研究
机译:新型α-胺官能化二氧化硅基分散体,用于在化学机械抛光过程中在二氧化硅,氮化硅或铜上选择性抛光多晶硅和Si(100)
机译:先进陶瓷(氮化硅)和玻璃(二氧化硅)磁浮法抛光(MFP)中的化学机械抛光(CMP)
机译:用于微电子应用中的多晶硅,二氧化硅和氮化硅膜化学机械抛光的新型浆料配方和相关机理。
机译:具有优异机械性能的氮化硅陶瓷浮球的增材制造
机译:氮化硅内表面磁场辅助机械化学抛光工艺。
机译:碳化硅晶须增强氮化硅陶瓷复合材料的力学性能