Eindhoven University of Technology Department of Applied Physics P.O. Box 513 5600 MB The Netherlands;
Eindhoven University of Technology Department of Applied Physics P.O. Box 513 5600 MB The Netherlands FUJIFILM TRL P.O. Box 90156 5000 LJ Tilburg The Netherlands;
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机译:聚合物基体上类似二氧化硅的薄膜的大气压阻挡放电沉积
机译:大气压空气中的大电流扩散介电势垒放电,用于沉积二氧化硅样薄膜
机译:大气压空气中的大电流扩散介电势垒放电,用于沉积二氧化硅样薄膜
机译:大气压辉光放电产生的薄膜的沉积与分析
机译:大气压等离子体CVD工艺的设计,该工艺使用介电势垒放电沉积氮化硅薄膜。
机译:薄膜沉积含有丁香酚的大气压介质屏障放电:排放和涂层表征
机译:大气压空气中的大电流扩散介电势垒放电,用于沉积二氧化硅样薄膜
机译:辉光放电分解法制备氢化非晶硼薄膜和薄膜太阳能电池的制备与表征。最终报告,1979年1月1日至1980年5月31日