Department of Materials Science and Engineering, Pohang University of Science and Technology (POSTECH), Pohang 790-784, Korea;
机译:用于存储器的Bi_(3.25)La_(0.75)Ti_3O_(12)和Bi_(3.25)Pr_(0.75)Ti_3O_(12)薄膜的结构和电学性质
机译:Bi_2O_3种子层对射频磁控溅射法制备Bi_(3.25)La_(0.75)Ti_3O_(12)薄膜的晶体取向和铁电性能的影响
机译:射频磁控溅射沉积Zr掺杂Bi_(3.25)La_(0.75)Ti_3O_(12)薄膜的铁电性能
机译:Bi_(3.25)LA_(0.75)TI_3O_(12)薄膜的电气性能,具有R.F的各种晶粒取向的薄膜。磁控溅射
机译:通过大功率脉冲磁控溅射沉积的银膜的电学和光学性质。
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:退火温度对溅射Bi3.25La0.75Ti3O12薄膜性能的影响