Microelectron. Center, BAE Syst., Nashua, NH;
aluminium compounds; gallium arsenide; high electron mobility transistors; indium compounds; molecular beam epitaxial growth; semiconductor device breakdown; GaAs; InGaAs-InAlAs-GaAs; asymmetrically recessed metamorphic high electron-mobility transistors; epitaxial design; gate recess; off-state breakdown voltages; on-state breakdown voltages; scaling behaviors; size 25 nm; ultra-high-frequency power applications;
机译:具有增强增益性能的非对称凹进50nm栅长变质高电子迁移率晶体管
机译:具有毫米波和亚毫米波应用的不对称凹入式栅极触点的超短变质高电子迁移率晶体管的栅极长度缩放
机译:具有减小的源漏间距的50nm非对称凹入变质高电子迁移率晶体管:性能增强和折衷方案
机译:25-nm不对称凹陷变质高电子移动性晶体管的缩放行为
机译:栅长短的栅凹氮化镓高电子迁移率晶体管。
机译:大休假框架的开发–测量小学休假情境和行为成分的观察工具
机译:使用Al2O3 / SiO2钝化在Si衬底上的原位仙/ ALN / AL0.05GA0.95N高电子迁移率晶体管