低表面エネルギー材料をモールドとした離形処理フリーナノインプリント法

摘要

ナノインプリント法(1)は，1995年にChouらによって提唱された微細加工技術であり，基板上に成膜された樹脂に対し，微細パターンが形成されたモールドを押し付けることによってナノスケールの微細加工を可能とする点が特徵である。その後，WiHsonらによるUVナノインプリント法(2)や，松井らによる室温ナノインプリント法(3)などの改良版が開発され，現在もなお盛んに研究が進められている分野の1つである。本手法は既存のリソグラフィ技術と比較して， 遥かに低コストで，プロセス工程数も少なく ，比較的安価な装置で微細加工ができるため，微細加工が必要とされる電子デバイス，光デバイス，記録メディア，バイオデバイ スなど多岐にわたる分野への応用が期待されている(4)。しかし，本手法は樹脂を介してモールドパターンを基板に転写する方式のため，微細パターンを有するモールドが必要で，その製造コストが高額なことと，モールドと樹脂との離形性を高めるために行う離形処理がモールド形状を劣化させ ることが問題となっている(5)(6)。そこで本研究では，上記の問題を解決するための手法として，表面エネルギーの小さ なポリジメチノレシロキサン(Poly dime thylsiloxane,PDMS)(7)と環状ォレフィンポリマー（Cyclic OlefinPolymer, COP)(8)をモールドとした，モールドの量産が可能で，かつ，離形処理フリーのナノインプリント法を検討した。