Plasma Metal Luxembourg;
Lebrun Paris;
Pierre Collignon- PD2i Paris;
plasma; nitriding; industrial application;
机译:经典活性屏等离子体氮化与半球形阴极笼活性屏等离子体氮化之间的氮化层差异
机译:有源屏幕等离子渗氮-一种高效的新等离子渗氮技术
机译:活性筛等离子体氮化过程的光谱诊断:活性筛和模型探针血浆之间的相互作用
机译:主动屏体等离子体氮化 - 等离子体氮化技术的大改善
机译:射频等离子体辅助分子外延生长氮化镓:通过RHEED-TRAXS测定表面化学计量,氮化镓:铍退火以及活性氮种类,表面极性和过量的镓超压对高温极限的影响。
机译:使用活性筛血浆氮化和氮烧坏增强奥氏体钢的耐腐蚀性
机译:测量有源屏等离子体氮化系统中的时间分辨等离子体参数