FG Nanotechnologie, Zentrum fuer Mikro- und Nanotechnologien, TU Ilmenau, PF 100565, 98684 Ilmenau, Germany;
3C-SiC; chemical vapor deposition; low temperature;
机译:硅衬底上三极管等离子体化学气相沉积法在硅衬底上低温异质外延生长3C-SiC
机译:硅衬底上三极管等离子体化学气相沉积法在硅衬底上低温异质外延生长3C-SiC
机译:在低基板温度下通过等离子体增强化学气相沉积和热线化学气相沉积沉积的薄膜的机械和压阻特性
机译:汽液固体技术对3C-SiC Seedgrown的化学气相沉积(111)3C-SiC层的低温致发光光谱的生长条件的影响
机译:氮化铝和氮化硅的低温热化学气相沉积和催化化学气相沉积
机译:使用低温气相陷阱热化学气相沉积法在蓝宝石衬底上生长的Zno微米/纳米结构:结构和光学性质
机译:通过热线化学气相沉积在塑料衬底上低温度沉积非晶和微晶硅膜