Qimonda Dresden GmbH Koenigsbruecker Str.180, D-01099 Dresden, Germany;
Infineon Technologies Dresden GmbH Koenigsbruecker Str.180, D-01099 Dresden, Germany;
Fraunhofer CNT, Koenigsbruecker Str.180, D-01099 Dresden, Germany;
NEGEVTECH GmbH, Manfred-von-Ar;
e-beam lithography; variable shaped beam; defect density; resist; CAR;
机译:电子投影和电子束直接写入光刻中的图像形成
机译:紫外线固化抗蚀剂的纳米狭窄行为及其与纳米压印光刻图案化缺陷的相关性
机译:通过电子束光刻对13nm栅极故意缺陷阵列(IDA)晶圆进行构图,以进行缺陷计量评估
机译:使用基于SEM的电子束光刻(EBL)技术形成单电子晶体管的纳米线:正电势与负电势电子束电阻
机译:使用有机氟化抗蚀剂和压印光刻技术对多种生物分子进行正交构图
机译:CsaR 62作为高对比度电子束光刻的负色调抗蚀剂 温度在4 K和室温之间