Hiratsuka Research Development Center, EUVA (Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association), 1200 Manda, Hiratsuka-shi, Kanagawa, 254-8567, Japan;
EUV lithography; laser produced plasma; xenon jet; MOPA system; deformable mirror;
机译:EUV光刻:激光产生的等离子体源更亮
机译:激光产生的等离子测试和原型光源用于EUV光刻的性能结果
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