退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
机译:用于大批量生产EUV光刻的光源:技术,性能和功率缩放
Igor Fomenkov; David Brandt; Alex Ershov; Alexander Schafgans; Yezheng Tao; Georgiy Vaschenko; Slava Rokitski; Michael Kats; Michael Vargas; Michael Purvis; Rob Rafac; Bruno La Fontaine; Silvia De Dea; Andrew LaForge; Jayson Stewart; Steven Chang; Matthew Graham; Daniel Riggs; Ted Taylor; Mathew Abraham; Daniel Brown;
机译:激光生产的基于等离子体的极紫外光源技术,用于大批量制造极紫外光刻
机译:光刻:预脉冲技术可扩展EUV源功率
机译:用于HVM EUV光刻的激光生产的基于锡等离子体的EUV光源技术的开发
机译:先进的光源技术可实现DUV光刻扩展的批量生产
机译:EUV光刻专用的锡掺杂微滴激光等离子体光源的辐射研究。
机译:高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性:材料设计策略和绩效结果综述
机译:用于未来光刻的高功率极紫外(EUV)光源
机译:用于EUV光刻的激光产生等离子体的高级源研究
机译:用于EUV光刻的掩模坯料的衬底的制造方法,具有用于EUV光刻的多层反射膜的衬底的制造方法,用于EUV光刻的掩模坯的制造方法以及用于EUV光刻的转移掩模的制造方法
机译:用于EUV光刻的面膜空白的制造方法,用于EUV光刻的具有多层反射膜的基板的制造方法,用于EUV光刻的面膜的制造方法以及用于EUV光刻的转移膜的制造方法
机译:用于EUV光刻的具有多层反射膜的基板的制造方法,用于EUV光刻的反射型掩模板的制造方法,用于EUV光刻的反射型掩模的制造方法,以及半导体的制造方法
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。