KLA-Tencor, 8834 N. Capital of Texas Highway, Suite 301, Austin, TX 78759 USA;
resolution enhancement; resolution limits; optical lithography;
机译:超越衍射极限的用于光学光刻的等离激元结构,材料和透镜:综述
机译:超出衍射极限的三维光学激光光刻
机译:超出衍射极限的三维光学激光光刻
机译:突破极限:结合电子束光刻和纳米印迹光刻技术来生产下一代磁性介质和光学介质
机译:光刻的短波长限制。
机译:克服压印光刻的纳米形状保留限制的分子动力学建模框架
机译:光学平版印刷的等离子体结构,材料和透镜超出衍射极限:综述