机译:超出衍射极限的三维光学激光光刻
Institute of Applied Physios, DFG-Center for Functional Nanostructures, Institute of Nanotechnology, Karlsruhe Institute of Technology (KIT), 76128 Karlsruhe, Germany;
Institute of Applied Physios, DFG-Center for Functional Nanostructures, Institute of Nanotechnology, Karlsruhe Institute of Technology (KIT), 76128 Karlsruhe, Germany;
direct laser writing; optical lithography; superresolu-tion; stimulated emission; photoresist;
机译:超出衍射极限的三维光学激光光刻
机译:结合单激光曝光衍射光学光刻和模板倒置的灵活制造三维光域光子晶体
机译:结合单激光曝光衍射光刻和模板倒置的灵活制造三维光域光子晶体
机译:朝向衍射 - 无限的三维激光光刻
机译:衍射光学近场激光光刻技术,用于制造3维周期性纳米结构。
机译:对单个粒子的二维X射线激光衍射图进行分类和组装以重建三维衍射强度函数:量子噪声引起的分辨率极限
机译:通过电子束光刻制造的三维衍射微米和纳米光学元件
机译:二元光学技术:多级衍射光学元件衍射效率的理论限制。