Center for X-Ray Optics, Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, CA 94720;
interferometry; extreme ultraviolet lithography; EUV; at-wavelength testing; MET;
机译:0.3数值孔径Micro Exposure Tool光学器件的极紫外干涉仪的准备
机译:用于EUV干涉测量的透射相位光栅
机译:用于天文干涉测量的集成光学元件。三,平面光学两望远镜合束器的光学验证
机译:0.3 NA MET OPTIC的EUV干涉测量学
机译:Sagnac磁光干涉法和过渡金属氧化物的磁光。
机译:用于混凝土结构损伤监测的分布式光纤传感和尾波干涉技术
机译:0.3 NA MET光学的EUV干涉测量
机译:EU Na干涉法测量0.3 Na mET光学元件的准备工作