Institute of Optoelectronics, Military University of Technology, Warsaw, Poland;
laser plasmas; laser plasma EUV sources; gas puff target; lithography;
机译:基于气扑靶的紧凑型激光等离子体EUV光源,用于计量应用
机译:Mo / Si多层镜在13.5 nm的计量,该激光使用了基于气团靶的激光产生等离子体超紫外线(EUV)源
机译:Mo / Si多层镜在13.5 nm的计量,该激光使用了基于气团靶的激光产生等离子体超紫外线(EUV)源
机译:基于煤气泡沫的压缩激光等离子体EUV源进行计量
机译:用于EUV光刻的液滴激光等离子体源的碎片表征和缓解。
机译:基于激光等离子螺旋波荡器的紧凑型可调谐偏振X射线源
机译:基于双流Xe / He烟气靶标的13.5 nm激光产生的等离子体EUV源的表征和优化