Chair for General Materials Science, Faculty of Engineering, Christian-Albrechts- University of Kiel;
Kaiserstr. 2, 24143 Kiel, Germany;
机译:通过控制半导体-电解质界面处的载流子收集,通过电化学蚀刻工艺来调整排列的深孔的直径
机译:半导体蚀刻中的自组织孔形成和开环控制
机译:半导体和金属阳极蚀刻和氧化过程中六角孔阵列的自组织动力学。
机译:半导体中的理解和控制孔蚀刻
机译:使用实时光谱椭圆偏振法原位控制和监视图案化半导体的干法和湿法蚀刻。
机译:球面光刻技术结合金属辅助化学刻蚀和各向异性化学刻蚀在Si(111)衬底上制造的三角形孔阵列
机译:半导体蚀刻中孔形成的开环控制
机译:具有电子回旋共振源的III-V化合物半导体的可控逐层蚀刻