Institute of Microengineering Nanoelectronics (IMEN) Universiti Kebangsaan Malaysia, 43600 Bangi, Malaysia;
spin-on glass (SOG); HF etch; microchannels; etching model; sacrificial layer;
机译:玻璃氢氟酸蚀刻对有机-无机玻璃层压板性能的影响
机译:用旋涂聚合物制成的光可定义微通道,牺牲蚀刻时间短
机译:氧化锆增强锂硅酸锂玻璃陶瓷的疲劳破坏负载粘附到牙本质模拟中:蚀刻时间和氢氟酸浓度的影响
机译:使用氢氟酸在非直微通道中蚀刻牺牲旋转玻璃(SOG)蚀刻的建模
机译:一维硅纳米线的细胞响应以及在纳米线生长之前用氢氟酸蚀刻硅(111)基板的效果。
机译:卷起的纳米技术:AlAs牺牲层的照明控制氢氟酸蚀刻
机译:使用氢氟酸的牺牲PSG蚀刻的原位监测和通用建模