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【24h】

Injection-level spectroscopy of metal impurities in silicon

机译:硅中金属杂质的注入级光谱

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摘要

Using a modified photoconductive eddy-current technique, excess carrier decay can be measured and used to identify the specific defect dominating recombination. As the dynamic range of the measurement system is linear over about three orders of magnitude, the injection-level spectroscopy technique can be performed in a single measurement for rapid defect identification.
机译:使用改进的光电导涡流技术,可以测量过量的载流子衰减,并将其用于识别主导重组的特定缺陷。由于测量系统的动态范围在大约三个数量级上呈线性,因此可以在单次测量中执行​​注入级光谱技术,以快速识别缺陷。

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