The Angstroem Laboratory, Department of Materials Chemistry, Uppsala University, Box 538, S-751 21 Uppsala, Sweden;
tungsten nanoparticles; LCVD; ablation; DMA; size-distribution;
机译:使用激光辅助化学气相沉积和激光辅助等离子体增强化学气相沉积的两步制造,用于长寿命有机发光二极管
机译:催化化学气相沉积与脉冲激光烧蚀相结合的掺Er a-Si:H新型沉积技术
机译:通过沉积由脉冲激光烧蚀产生的尺寸选择的纳米颗粒来制造硅纳米结构薄膜
机译:激光辅助化学气相沉积和脉冲激光烧蚀产生的钨纳米粒子的尺寸分布及表征
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:193 nm ArF受激准分子激光在激光辅助等离子体增强SiNx的化学气相沉积中的作用以进行低温薄膜封装
机译:对于200 ps CO2激光脉冲,化学气相沉积生长的金刚石表面的激光诱导损伤阈值
机译:脉冲激光烧蚀石墨/环氧复合材料引起的蒸汽羽状物质和沉积残留物的表征。