IMS Chips, Allmandring 30a, D-70569 Stuttgart, Germany;
chemically amplified resist; e-beam, photomask process and materials; stencil mask;
机译:氟化聚甲基丙烯酸酯作为高度敏感的非化学放大电子束抗蚀剂
机译:电子热能对化学放大电子束抗蚀剂敏化过程的理论研究抵抗电子束罩写入中的加热效果
机译:用于电子束光刻的高分辨率图案化的新型化学增强抗蚀剂
机译:对掩模制作的电子束敏感抗蚀剂的比较评价
机译:砷化镓晶片的表面化学研究在化学放大的抗蚀剂构图过程中进行,并通过荧光进行抗蚀剂研究。
机译:通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译:用于高级掩模制作的电子束敏感CaR的评估