Microelectronics Centre, School of Electrical and Electronic Engineering, Nanyang Technological University, Singapore 639798;
reactive ion etching; via hole; GaAs;
机译:厚GaAs晶片中通孔应用的反应离子刻蚀技术
机译:用于GaAs通孔蚀刻应用的具有反应性离子蚀刻系统的新型蚀刻技术
机译:用于GaAs通孔蚀刻应用的具有反应性离子蚀刻系统的新型蚀刻技术
机译:通过GaAs的反应离子蚀刻通过晶片通过孔
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:基于Au掩模和反应性离子刻蚀的晶圆级分层纳米柱阵列用于有效的3D SERS基板
机译:栅极长度短的GaAs / AlGaAs / InGaAs伪变形MODFET的选择性反应离子刻蚀
机译:反应离子刻蚀和溅射刻蚀诱导Gaas表面损伤