Canon Inc., Utsunomiya, Tochigi, Japan 321 -3292;
lithography; aberration; zernike coefficients; illumination source; aperture;
机译:协方差矩阵法求解波前像差时泽尼克系数的稳定性
机译:Zernike像差系数与傅里叶级数系数的相互转换,用于波前表示
机译:通过利用八阶散光估计来自Zernike全场显示的现场依赖性节点像差理论系数
机译:光学像差测量的Zernike系数提取方法
机译:高阶像差患者Zernike系数的聚类分析。
机译:通过合并定制的先验估计Zernike系数来进行像差检索
机译:通过结合定制的前沿来检索用于估计Zernike系数的像差检索
机译:自适应光学中像差系数的自适应估计,