Advanced Lithography Technology Department, Micropatterning Technology Division, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd., Hsinchu 300, Taiwan;
optical lithography; mask error factor; mask error enhancement factor; masks;
机译:低K {sub} 1成像的掩模误差张量和掩模误差增强的因果关系:理论与实验
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机译:通过干法和浸入式ArF光刻实验设计优化掩膜误差增强因子的仿真
机译:低ki成像的掩模误差张量和面罩误差增强因素:理论与实验
机译:校正策略以补偿在EUVL掩模卡盘过程中引起的图像放置错误。
机译:治疗完整性的全球衡量标准可能会掩盖离散试验培训中的重要错误
机译:照明光谱宽度影响0.6Na KrF成像中的掩模误差增强因子和等密度偏差
机译:不完美掩模引起的Hadamard光谱或成像误差