Research and Development Department, SHINCRON CO., Ltd., 2-6 Minami-ohi 3 Chome, Shinagawa-ku, Tokyo, 140-8540 Japan;
机译:用于软X射线光学应用的离子束溅射沉积碳化锆(ZrC)薄膜的结构和光学性质的研究
机译:不同磁控溅射功率300℃沉积Ga_2O_3-ZnO薄膜的光电性能及其在p-i-nα-Si:H薄膜太阳能电池中的应用
机译:高速低温自由基辅助溅射镀膜机及其在沉积高性能滤光片中的应用
机译:RAS(自由基辅助溅射)涂布机生产的二氧化钛薄膜的结构和光学性质
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:在1.55 µm波长范围内用于传感应用的多模光纤结构上沉积的溅射掺杂铝的氧化锌薄膜上产生有损模共振
机译:溅射铝掺杂氧化锌薄膜上的有损模式共振发电,用于在多模光纤结构上进行传感在1.55μm波长范围内的应用