National Institute of Standards and Technology, Gaithersburg, MD, 20899;
critical dimension (CD); linewidth; model-based library metrology; resist; scanning electron microscopy (SEM);
机译:使用基于模型的库扫描电子显微镜的尺寸计量
机译:CD-SEM在关键尺寸测量中使用基于模型的库
机译:低和超低着陆能量的基于模型的CD-SEM计量:先进IC制造的实施和结果
机译:基于SEM模型的库方法的抗蚀线尺寸计量
机译:使用一维湍流模型的基于模型的湍流燃烧闭合方法。
机译:兔和人角膜的三维显微解剖。化学和机械显微解剖-SEM方法
机译:一种新的混合方法,组合AFM和SEM的纳米粒子尺寸计量