NIST Polymers Division, Gaithersburg, MD 20899;
CD metrology; X-ray scattering; sub-100 nm lithography;
机译:基于Mueller矩阵椭圆偏振光谱的光学临界尺寸计量学的28 nm间距硅鳍片的灵敏度分析和线边缘粗糙度确定
机译:线边缘粗糙度计量软件
机译:使用高压CD-SEM的EUV抗蚀剂的CD计量:收缩率,图像清晰度,可重复性和线条边缘粗糙度
机译:基于CD-SAX的线边缘粗糙度计量初步评估
机译:半导体线边缘粗糙度的扫描探针计量。
机译:初步评估的计算机辅助放射学评估对肾脏肿块边缘的检测可作为预测肿瘤粗糙度预测肾癌亚型的指标
机译:使用穆勒基矩阵光谱椭圆形测定法测定28纳米间距硅翅片的敏感性分析和线边缘粗糙度测定光学关键尺寸计量
机译:利用二阶闭合传热到多孔球/锥的初步研究。表面粗糙度,边缘湍流和蒸发的影响。