NILPRP, Lasers Dept., P.O. Box MG-16, RO 077125, Bucharest, Romania;
pulsed laser deposition; radiofrequency plasma beam; ferroelectric film; dielectric properties;
机译:射频束放电辅助脉冲激光沉积BaTiO_3薄膜的性能
机译:铝等离子体参数对反应性交叉束脉冲激光沉积Ti-Al-N薄膜物理性能的影响
机译:束能量对脉冲激光沉积铝掺杂ZnO薄膜性能的影响
机译:激光波长和脉冲数对脉冲激光沉积氧化铋薄膜结构和光学性能的影响
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:脉冲激光沉积沉积的Nb掺杂SrsnO3外延膜的电气和光学性能
机译:许多激光脉冲对由673K脉冲激光沉积(PLD)技术沉积的CuO薄膜光学性质的影响