International Technological University, Santa Clara CA 95050;
scattering electrons; electron beam lithography; proximity effects; energy deposition; simulate;
机译:基于能量沉积分布的电子束拉伸精细抗蚀剂轮廓形成及溶解度显影模拟
机译:绝缘层中低能电子注入和散射的蒙特卡罗模拟
机译:掺杂薄层中杂质离子的相关分布,二维电子在散射中的电阻率的温度特性
机译:不同型号电子束能量沉积诱惑软件模拟抗蚀剂加热
机译:自组装单分子层的气相沉积,作为区域选择性原子层沉积的抗蚀剂。
机译:人工施工Ruddlesden-Popper的分层反射法高能电子衍射监测La2Sr2Mn3O10锰激光沉积
机译:第一原理研究电子诱导的原子层沉积前体激发前体:使用时间依赖性密度函数理论与钴三羰基亚硝基酰基CO(CO)3的无弹性电子波分组散射