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HVO_2 チャネルを用いたトランジスタ構造の作製と 電界効果プロトン濃度制御による抵抗変調

机译:使用HVO_2通道的晶体管结构的制作和场效应质子浓度控制的电阻调制。

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摘要

二酸化バナジウム(VO_2)は室温近傍で金属-絶縁体転移(MIT)を引き起こす強相関電子系材料である。VO_2 への不純物ドープは電気輸送特性とMIT 温度を劇的に変化させるため、基礎物性、及び応用両面での研究が盛んである。特に、我々は電界効果によるプロトンドープによって抵抗変調させる新たなイオニックデバイスを創製してきた。
机译:二氧化钒(VO_2)是一种高度相关的电子材料,会在室温附近引起金属-绝缘体转变(MIT)。 VO_2的杂质掺杂极大地改变了电输运性质和MIT温度,因此对基本物理性质和应用的研究都是活跃的。特别是,由于电场效应,我们通过质子掺杂创建了一种具有电阻调制的新型离子器件。

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