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【24h】

HVO_2 チャネルを用いたトランジスタ構造の作製と 電界効果プロトン濃度制御による抵抗変調

机译:通过质子浓度控制使用HVO_2通道和电阻调制的晶体管结构的制备

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摘要

二酸化バナジウム(VO_2)は室温近傍で金属-絶縁体転移(MIT)を引き起こす強相関電子系材料である。VO_2 への不純物ドープは電気輸送特性とMIT 温度を劇的に変化させるため、基礎物性、及び応用両面での研究が盛hである。特に、我々は電界効果によるプロトンドープによって抵抗変調させる新たなイオニックデバイスを創製してきた。
机译:二氧化钒(VO_2)是一种强烈相关电子系统,导致金属绝缘体过渡(MIT)在室温附近。 VO_2的杂质掺杂显着改变电气传输性能和麻省气体温度,因此在两个应用上的基础材料和应用是驱动的H.特别地,我们已经创建了一种新的离子装置,其由于场效应而通过质子掺杂来调节电阻。

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