セルフアラインプロセスで作製したエミッタ-BSF間のギャップ付きイオン注入裏面電極型結晶シリコン太陽電池セル

摘要

我々は、結晶シリコン太陽電池セルの高効率化と低コスト化に向けイオン注入プロセスの本格導入を目指している。今回我々は、イオン注入法による裏面電極型結晶シリコン太陽電池セルの作製において、フォトリソグラフィーのパターニングが一回のみでエミッタとBSF の間にギャップを形成するセルフアラインプロセスを提案する。