Institute of Photonic Technology, Albert-Einstein-Str. 9, 07749 Jena, Germany;
Institute of Photonic Technology, Albert-Einstein-Str. 9, 07749 Jena, Germany;
Institute of Photonic Technology, Albert-Einstein-Str. 9, 07749 Jena, Germany;
SCHOTT AG, Division;
fused silica; 193nm; E' and NBOH centers; laser induced degradation;
机译:修订了用于深紫外激光应用的熔融石英的加速寿命测试
机译:ArF准分子激光辐照熔融石英的激光诱导荧光
机译:ArF激光辐照下原始熔融石英(III型)中缺陷的产生和退火:透射率测量和动力学模型
机译:ARF激光辐照上的熔融二氧化硅的加速终身测试
机译:对数正态响应分布与Arrhenius速率关系的加速降解测试的寿命预测和置信范围。
机译:通过连续照射能量密度低于激光诱发损伤阈值的飞秒激光观察和分析熔融石英的结构变化
机译:O / si比和氢含量对arF准分子激光烧蚀熔融石英的影响
机译:准分子激光照射对紫外级熔融石英透射率,折射率和密度的影响。