Brewer Science, Inc., 2401 Brewer Drive, Rolla, MO, USA 65401;
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Brewer Science, Inc., 2401 Brewer Drive, Rolla, MO, USA 65401;
DSA; BCP; hardmask neutral layer; pattern transfer; grapho-epitaxy;
机译:相分离聚合物共混薄膜的毛细管力光刻法指导的自组装(CFL-PDSA)
机译:通过化学外延直接自组装(DSA)工艺流程将线/间隔图案的28 nm间距转移到硅衬底中
机译:石墨外延节距倍增应用的中性预设定向自组装的计算研究
机译:优化的嵌段共聚物和中性刷层的等离子蚀刻窗口,可增强直接自组装图案转移到硬掩模层的能力
机译:Ultralarge石墨烯氧化物的生物透露自组装和藻酸盐进入多功能层状纳米复合材料
机译:毛细管力光刻模式导向的自组装(CFL-PDSA)相分离聚合物共混薄膜
机译:串联连接的单层mos FET,其沟道通过7.5nm分辨率定向自组装光刻图案化