Infineon Technologies Austria AG, Siemensstrasse 2, A-9500 Villach Department of Lithography, Unit Process Development;
high resolution i-line resist; focus/exposure matrix; off-axis illumination; process stability;
机译:耐等离子改性I线,深紫外线和电子束抗蚀剂
机译:通过利用液晶显示面板利用无掩模投影曝光系统来打印厚度的两层抗蚀剂处理
机译:使用多重曝光和抗热解的独立3D碳微结构的制造和表征
机译:在低k因子下印刷各种特征类型,具有先进的I线负负抗蚀剂
机译:抗碎剂和加强CFRS壳结构的耐火性和集成阻燃剂的影响=非增强和加固CFRP壳结构的耐火性及集成阻燃层的影响
机译:静电力辅助点胶印刷在纹理化表面上构造高纵横比的0.79电极具有改善的附着力和接触电阻
机译:使用液相甲硅烷基化的I线抗蚀剂的顶表面成像光刻工艺
机译:偏振 - 紫外吸收光谱法研究四价和五价钼和钨中Octacyono配合物的电子和几何结构。 polarisations-Uv-absorptionsspektrometrische Untersuchungen Zur Elektronischen und Geometrischen struktur der Oktacyanokomplex des Vier- und Fuenfwertigen molybdaens und Wolframs