Advanced Nano _ tech Development, Dongbu Electronics, 474-1, Sangwoo-Ri, Gamgok-Myeon, Eumseong-Gun, Chungbuk, Korea, 369-852 Jongdoo.;
image tone; DUV mask; resolution; mask throughput; OPC model accuracy;
机译:使用硅化物直接写入电子束光刻工艺制造用于DUV和EUV光刻的掩模
机译:150 nm及更高波长的高级正色调DUV光刻胶Twoard的优化
机译:使用简单的DUV负性抗蚀剂通过电子束光刻技术对高纵横比进行构图
机译:DuV光刻高级掩模制作的图像音调优化
机译:利用基于图像的格式,以优化模式数据格式和掩模和掩模模式生成光刻的处理
机译:使用双孔掩模和先进的图像传感器软件在激光加工过程中进行实时实时焦点检测
机译:DUV光刻化学放大的抗蚀剂抗蚀剂的发展。
机译:光化掩模成像:sHaRp EUV显微镜的最新结果和未来方向。会议:极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:期刊出版日期:2014年4月17日。