Tokyo Ohka Kogyo. Co., Ltd. 1590 Tabata, Samukawa-machi, Koza-gun, Kanagawa, 253-0114 Japan;
193nm immersion lithography; topcoat; immersion defect; immersion dedicated resist;
机译:用于193nm浸没式光刻的无面漆光刻胶
机译:用于193nm浸没式光刻的高RI抗蚀剂的合理设计
机译:193nm浸没式光刻胶中抗蚀剂组分界面传质的研究与控制
机译:193NM浸入光刻的面涂层和抗蚀剂开发的进展
机译:电子束光刻光刻胶的研制与应用。
机译:溶剂浸渍压印光刻:高性能半自动程序
机译:开发用于193nm浸没式光刻的高折射率抗蚀剂